よくあるご質問（FAQ）

(ICPMS) 有機物が多く含まれる試料の分析

有機物を多量に含む試料は、干渉や導入経路の汚染などのトラブルにつながります。 液体試料であっても、一般にマイクロウェーブなどを用いた酸分解で有機物を除去、あるいは有機物の影響が十分小さくなるまで希釈して測定することを推奨します。 前処理を行った後も有機物が残っていると干渉の原因となり、正しい定量値が得られない... 詳細表示

(ICPMS) どのくらい濃いマトリクスを導入できますか？

塩濃度が 200 ppm 程度になるまで希釈してからICP-MSに導入してください。 マトリクス濃度が高いと分析への影響が大きくなります。 サンプリング深さを遠ざける、ペリスタルティックポンプ回転数を減らすことで、一般的に感度は落ちますが、マトリクスによる影響を軽減できます。 また、Ni製のスキマーコーンに... 詳細表示

(ICPMS) 一族元素、二族元素を感度良く測る方法

マトリクス濃度の小さい試料中では、一族元素（Li、Na、K など）、二族元素（Ca、Mg など）は、プラズマの温度を下げる（クールプラズマ）ことで、Ar 等に由来する干渉イオンの影響を低減することができ、感度向上が期待できます。出力を下げる、サンプリング深さを遠ざける、希釈ガスを導入する（ICPMS-2040/2... 詳細表示

(ICPMS) P/A校正試料の元素と濃度の決め方

P/A校正試料とは、ICP-MS測定においてパルス検出領域とアナログ検出領域との感度差を補正するために用いる校正試料です。測定信号が低濃度領域（パルス）から高濃度領域（アナログ）へ切り替わる際にも、連続性のある定量結果を得ることを目的として使用します。 [メソッド] - [校正試料] - [P/A校正試料] タ... 詳細表示

(ICPMS) セルガスとは何ですか？

スペクトル干渉を生じるイオン（干渉イオン：多原子イオン、 二価イオン等）の低減または除去を目的に、イオンと衝突または反応させるためのガスのことです。 セルガスには、ヘリウムガスなどの不活性ガスを使用したコリジョンガスと、水素やアンモニアなどの反応性ガスを使用したリアクションガスがあります。 コリジョンでは、2... 詳細表示

(ICPMS) 酸化物や二価イオンなどの干渉

定性分析や全質量プロファイル測定を行い、酸化物や二価イオン、塩化物等の干渉の要因となる共存元素の存在の有無をご確認ください。 LabSolutions ICPMSのプロファイル画面で、干渉の要因となる元素を特定します。 （LabSolutions ICPMSの操作方法に関しては、『LabSolutions I... 詳細表示

(ICPMS) スキマーコーンのコンディショニング

コンディショニングは、長時間安定性を向上させる目的とバックグラウンドを低減する目的で行います。 バックグラウンドを低減させるためには、カルシウム100 ppm溶液を1－3時間程度導入し、1 %硝酸溶液に切り替えて10分程度導入し、スキマーコーンの材質に使用されている元素のバックグラウンドの変動が見られなくなって... 詳細表示

(ICPMS) 希釈率などのファクター入力

[分析] タブの [採取量]、[メスアップ量]、[ファクター] を使用して計算できます。 換算後の濃度は （溶液中濃度）×（メスアップ量）×（ファクター）÷（採取量） で表されます。 （例） 0.5 g 採取して、20 mLにメスアップした試料をさらに10倍希釈した試料を、単位 µg/L の検量線※で... 詳細表示

(ICPMS) 定性分析値の算出方法

各元素で、濃度に対応する強度のデータベースを装置内部に持っています。このデータベースを用い、定性分析した強度値を濃度換算し、 定性分析値としています。 定性分析をする際は、機体差・日間変動などを補正するため、[装置校正] の中の [DB校正] を実施してください。 なお、装置の状態や試料によって、分析値は変わ... 詳細表示

(ICPMS) 懸濁物が含まれる試料の導入

懸濁物が含まれる試料を導入するとネブライザーが詰まる恐れがあります。 また、試料の導入が不安定になり、精度が悪くなる可能性があります。 5種B（JIS P3801）の ろ紙、もしくは0.45 µm径程度のメンブレンフィルターでろ過してください。 懸濁物を含めて濃度を求めたい場合は、酸分解などの手段で溶解して... 詳細表示